半導體AMC防治產業又多了一家公司準備掛牌。這邊就來簡單理解一下AMC化學濾網與微污染控制公司，鈺祥。鈺祥在半導體先進製程用高階濾網有很好的競爭力。公司已經申請登錄興櫃。
鈺祥，主要產品是應用於高科技製造環境中的化學濾網及化學濾筒，其核心用途是進行微污染控制（AMC, Airborne Molecular Contamination），以確保製程環境的潔淨度，進而提升良率。
公司之化學濾網產品廣泛應用於半導體、記憶體、面板及封裝等高科技產業，主要安裝於外氣空調箱MAU、風機過濾組FFU以及製程設備端，由於產品具備高度客製化特性，與同業公司之產品規格差異較大。
隨著半導體先進製程持續往 2 奈米與更先進節點推進，線寬縮小使晶片製造過程的敏感度大幅提升，製程與設備複雜度同步增加。在此背景下，晶圓廠對環境潔淨度的要求日益嚴格。近年來，製程污染風險的重點已從傳統「微粒數量控制」轉向「空氣分子污染（AMC）管理」，因 AMC 對製程良率、設備穩定度與元件特性具有高度破壞性。也因此，全球晶圓廠對 AMC 解決方案的需求快速攀升，成為先進製程不可或缺的關鍵技術環節。
鈺祥之所營業務技術層次，已由早期濾網代理與組裝，升級為具備材料科學、精密製造、數據驅動研發及循環再生技術之高階微污染控制 （AMC）解決方案供應商。其產品可支援 7 奈米以下至 2 奈米以下先進半導體製程，並透過自主研發之高效吸附材料與結構設計，有效抑制氣態分子微污染物，於 5 奈米以下製程具高度市佔率。
公司掌握關鍵製程技術，建構完整垂直整合產線，持續投入研究發展，建構材料分析、結構設計與製程驗證之研發體系，並設立多座自主研發與品管實驗室。透過數據化與模擬技術優化濾材性能，提升產品於先進製程環境下之穩定性與可靠度，並持續開發再生濾網及次世代產品。
未來，鈺祥將聚焦於對微污染控制要求更高、導入門檻較高之高階製程與關鍵製造環境客戶，逐步提升高毛利產品與系統解決方案佔比，優化產品組合與整體獲利結構。
鈺祥主要產品服務有:
(1)化學濾網 Chemical Filters
針對無塵室、製程設備等關鍵區域，提供高效去除分子級污染物的解決方案。
(2)高效空氣濾網 Air Filters
包含 HEPA、ULPA 及特殊應用濾網，有效控制粒子污染，確保超高潔淨標準。
(3)無塵室設備 Cleanroom Equipment
設計與整合各式無塵室關鍵設備，與 YESIANG 化學濾網結合提升整體製程環境品質。
(4)正壓系統淨化 Positive Pressure Purification Systems
防止外部污染侵入，打造穩定、潔淨的生產空間。
以下是鈺祥的產品從應用來區分:
針對AMC微污染控制、鈺祥提供各式解決方案：設備製程區解決方案、電子機房區解決方案、外氣空調箱解決方案、風扇空調區解決方案.....。
(a)外氣空調箱解決方案 Make-up Air Unit (MAU) Solutions
外氣空調箱（Make-up Air Unit, MAU）是無塵室（Clean Room）循環系統中負責外氣（Outdoor Air, OA）初步處理的核心設備。MAU直接決定室內空氣品質，對廠房環境條件、生產效率及產品品質具有關鍵影響力，因此被視為保障無塵室運作穩定性的第一道防線。
MAU 運作原理為，當外氣絕對濕度高於無塵室目標濕度時，系統會先利用預冷盤管（Pre-cooling Coil）降低外氣露點，隨後透過預熱盤管（Pre-heating Coil）將氣流加熱至適宜溫度，確保送入無塵室的空氣能在與設備顯熱氣流混合後，穩定維持無塵室對溫濕度的嚴格要求。最後，經過出口端配置的高效率濾網，實現 99.7% 以上的粒子過濾效率，並有效去除各類 AMC，達到無塵室超高潔淨度標準。由於 MAU 處理大量外氣，其系統能耗在整個無塵室循環中佔比最大，因此提升其能源效率至關重要。
@針對MAU，鈺祥提供包含，4V/6V 單凸化學濾網，化學濾筒，6V 箱式化學濾網，平板化學濾網。
(b)風機濾網機組解決方案 Fan Filter Unit (FFU)
風機濾網機組（Fan Filter Unit, FFU）是無塵室空氣供應系統中的關鍵設備，結合送風機與高效濾網功能，負責將潔淨氣流均勻送入室內，並維持無塵室的正壓環境。
鈺祥的FFU解決方案可依據客戶無塵室現有硬體規格與運作條件，靈活搭配各型濾網，確保系統整合最佳化，並滿足不同潔淨等級需求。
@針對FFU，鈺祥提供包含4V/6V單凸化學濾網，6V 箱式化學濾網，平板化學濾網，蒸籠式化學濾網，堆疊式化學濾網，再生型化學濾網。
(c)設備製程解決方案 Tools Solutions
在半導體產業中，設備機台（Tools）扮演著關鍵角色，為最直接接觸元件與產品的生產環節，對最終產品良率具有決定性影響。除了設備本身的技術與性能要求外，設備內部環境的潔淨控制亦不可忽視。隨著製程線寬持續微縮至奈米級，氣態分子污染物（Airborne Molecular Contamination, AMC）對製程的潛在威脅日益加劇。微量污染源一旦進入設備關鍵區域，將可能導致元件性能劣化、缺陷生成，甚至影響製程穩定性與成品良率。
為此，鈺祥企業針對半導體設備製程需求，設計出一系列高效能化學濾網，可廣泛應用於各類先進設備機台，提供靈活且高適應性的AMC微污染控制解決方案。
@針對設備機台，鈺祥提供包含平板化學濾網，堆疊式化學濾網，再生型化學濾網。
(d)電子機房解決方案 Data Center Solutions
隨著 5G 技術與大數據應用的迅速擴展，全球機房（Server Room）及數據中心（Data Center）的建置需求快速成長。然而，空氣微污染對機房設施的潛在威脅，仍未受到足夠重視。空氣中懸浮微粒（Particulates）、交通運輸所排放的酸性氣體（如SO₂、NOₓ）、以及人體代謝所產生的揮發性有機化合物（VOCs），都可能對電子設備內部的精密元件造成腐蝕、污染與性能劣化。若未有效防護，將可能引發設備過熱（Thermal Stress）、線路短路（Short Circuit）、系統故障（System Failure）乃至於資料損毀（Data Loss）等重大風險。
為有效保護機房及數據中心中的關鍵設備免受微污染與 AMC（Airborne Molecular Contamination）侵害，鈺祥企業提供針對電子機房特性量身設計的微污染控制解決方案。
@針對電子機房，鈺祥提供包含平板化學濾網。
(e)石化產業通風過濾解決方案 Petrochemical Ventilation Filtration Solutions
石化產業在高溫、高腐蝕與高污染氣體環境中運作，對通風系統的潔淨與穩定性要求極高。為了保護中控室、電控設備與作業人員的健康，建置一套高效的氣相分子污染控制系統是確保製程穩定與永續營運的關鍵。外部空氣經過三級濾網（初級濾網、化學濾網、高效濾網）過濾後，潔淨空氣穩定導入操作空間，有效隔絕腐蝕性氣體與細懸浮粒子。
鈺祥企業提供專為石化環境設計的化學濾網與通風過濾解決方案，有效去除氣態分子污染（AMC），降低腐蝕風險，並協助企業符合環安法規與永續標準
@針對石化產業，鈺祥提供包含化學濾筒。
再生型濾材
面對全球製造業邁向低碳轉型的浪潮，鈺祥研發團隊聚焦於再生型濾材、模組化結構與循環經濟應用，透過橫跨化學、材料、機械領域的跨域整合能力，提出一系列高效、低耗能、可循環使用的濾網產品，大幅延長濾網壽命並減少廢棄物產生，協助客戶實現碳足跡管理目標。
目前半導體大廠為因應全球永續發展趨勢，紛紛推出永續供應鏈管理及資源循環相關政策，鈺祥以再生技術與循環經濟為核心，濾網可重複使用十次以上，協助客戶降低廢棄物與成本。
AMC 產業發展
隨著國內高科技半導體技術不斷發展下，製程元件與線寬已逐漸進入 2 奈米世代，如此高階製程技術下，各製程環境中之氣態分子污染物質(airborne molecular contaminant，AMC)，已成為影響製程良率之關鍵因子，而氣態分子污染物其污染途徑，可藉由化學反應(酸鹼反應、氧化還原反應)與產品元件產生反應或以物理性吸附沈積方式於晶圓表面或曝光鏡頭表面形成薄膜， 將造成晶圓產品元件之缺陷或製程可靠度降低，目前國內各半導體廠已開始重視AMC 議題，特別是高階晶圓廠。
潔淨室內環境潔淨度對半導體製程良率的影響，相關業者很早就開始進行防範處理。過去主要對於懸浮微粒(particulate matter)控管較為重視，然而隨著製程線寬設計愈來愈精細，對於潔淨度控管的標準也愈形嚴格。在懸浮微粒的控制部分，一般常採用高效率濾網 (High-Efficiency Particulate Air, HEPA)，其對於微粒(0.3μm 以上)去除率可達 99.99%；或是使用超低量穿透濾網(Ultra Low Penetration Air Filter, ULPA filter)，對於微粒(0.12μm 以上)去除率亦可達 99.999 %。 因此，現今懸浮微粒污染已不再是造成晶圓缺陷、降低產品良率的主因。取而代之， 氣態分子污染物(Airborne molecular contaminants, AMCs)已成為影響產業製程良率的重要因素之一，因此逐步受到重視。
AMC 可歸為五類，分別為酸(acids，簡稱 MA)、鹼(bases，簡稱 MB)、可凝結物(Condensables，簡稱 MC)、摻雜物(dopants，簡稱 MD)及其他未分類物(no classes)。與懸浮微粒不同， AMC 氣體分子除自身可能吸附於物體表面外，其 AMC 分子之間可能會相互反應結合產生微粒沉積。再者，AMC 污染物依其本身的結構及化學特性，亦可能對製程造成其他化學性或物理性的影響，其影響更甚於懸浮微粒污染，故對於 AMC 污染物之防治不可不慎。
潔淨室內的 AMC 來源可能是外氣、人體、製造設備、製造用氣體或藥液蒸氣建築物及潔淨室內的建材等，由於來源非常廣泛，污染物項目族繁多元，因此如何有效控制成為業者相當困擾的一大難題。
此外，由於半導體製程有很多階段，而每段製程都有不同的化學物質投入，因此當要判斷潔淨室 AMC 污染來源時，除了要確認是否來自當下製程的污染，也要同時考慮到是否來自其他製程的殘留或影響，亦或來自操作人員或環境周邊造成之污染。唯有詳細精確的掌握影響狀況，才可能真的杜絕污染源繼續發展。
AMC 濃度檢測是微污染防治的第一道防線，精確的檢測數據能提升污染物的特性與濃度評估準確度，進而完成合適的控管計畫進行有效的 AMC 攔截與去除，使環境濃度獲得良好的控制，以達到先進製程所需的穩定製程環境。世界最先進製程的晶圓廠就在台灣，因此 AMC 微污染防治產業的重鎮就在台灣。近年來美、中、日、歐盟也在極力發展半導體產業，持續有大型晶圓廠投資興建計畫，這也將帶動 AMC 微污染防治產業的剛性需求。
鈺祥MAU（外氣空調箱）及FFU（風扇過濾單元）主要成本係來自於濾料。以供應鏈來看，AMC化學濾網產業上游以高分子材料、活性碳、化學吸附材料及精密零組件供應商為主；中游為微污染控制（AMC）濾網之研發、設計與製造，需具備材料配方、結構設計與製程整合能力；下游則為半導體晶圓廠、光電與高潔淨度製程產業，應用於無塵室環境之氣體污染控制。
鈺祥，是一家AMC化學濾網與微污染控制公司，2025年營收有16.6億，ROE為13%，毛利率43.71%，負債佔資產比率為36%。2025年營收以AMC防治耗材銷售佔96.53%，無塵室相關服務收入佔3.47%。以毛利率來看，AMC 防治耗材毛利率為43.99%，無塵室相關服務毛利率為35.91%。銷售區域以台灣佔87%，外銷佔13%。公司客戶有台積電，美光..... ..等等。鈺祥研發費用佔營收比率為5%。
競爭
在 AMC 濾網產業中，鈺祥主要競爭者為國際大型品牌，如 Camfil（康法） 與 Entegris（英特格），兩者於半導體無塵室濾材設計、壽命管理與設備整合上具深厚經驗。在台灣市場，主要本地競爭者為濾能，其具備在地服務與快速導入的優勢，並在部分應用中累積一定市佔。
市場佔有率
鈺祥化學濾網在半導體產業市佔率大於50%、5nm以下先進製程高階濾網為主要產品，市佔率大於80%。公司產品在 MAU（外氣空調箱）及 FFU（風扇過濾單元）的市佔率居業界前段。
銷貨集中
半導體市場需求高度依賴先進製程的發展，市場集中度高，且台灣半導體產業供應鏈完整，晶圓代工對於全球來說更是具有舉足輕重之地位，在此行市場環境下，容易有銷貨集中之情形。鈺祥114年度對單一客戶台積電之銷售比重最高67.59%，因應此銷貨集中風險。
持續拓展新客戶/新市場
(1)除了服務台灣一線半導體廠外，公司積極拓展海外市場，包括美國、日本、韓國及新興市場，此外積極切入半導體先進製程、先進封裝、AI 與高效能運算（HPC）等高成長應用領域，同時拓展海外晶圓廠、面板廠及高科技製造客戶，持續擴大營收規模。
(2)推進再生濾網與設備機台濾網的實廠上機驗證，積極推動與前十大設備商的綁定計畫，強化高階製程應用滲透；並推動新產品如水濾與初袋濾網 VMI 的展示與導入。
(3)探索水處理、車用空調等跨產業應用。
發展趨勢
隨著半導體製程持續朝向更先進節點推進，製程環境對空氣品質的要求更形嚴苛，AMC（Airborne Molecular Contamination）濾網產品的發展也呈現多元化與高階化的趨勢。
首先，材料技術朝向高效吸附、高穩定性與低污染源演進，能在更小的壓損下達到更高濾效，並同時提升濾網使用壽命。其次，客製化與模組化成為市場主流，各大晶圓廠因製程差異，要求濾網具備精準調校能力，包括材料組成、濾層配置與壓損管理等，促使產品朝向高度客製的系統化設計發展。
此外，ESG 與成本意識提升帶動「再生濾網」與「長效濾材」需求擴大，使濾網產品逐漸從一次性耗材走向循環使用與壽命延伸。配合智慧製造趨勢，濾網產品也將加入感測、壽命預測與數據監控功能，使 AMC 管理更即時、有效率。
整體而言，未來產品將朝向高效能、可循環、可監控且具系統整合能力的方向快速發展。
半導體供應鏈本土化趨勢
台灣是全球半導體製造與封測的中心，鈺祥與晶圓代工、封裝測試廠及其他設備商建立緊密合作關係，能快速取得需求反饋，迅速回應客戶在先進製程中的需求，客製化微汙染解決方案，且因位於台灣之地緣優勢，能即時支援全球晶圓廠之需求。
過往化學濾網中，國外廠商佔比市佔率較大，然鈺祥為本土供應鏈，且具備在地生產與再生中心能力，可隨時針對客戶之需求進行調整並提供相關協助，為進口替代之受惠者。
成長性
(a)隨先進製程線寬持續縮小、製程複雜度提升，微量氣態污染物（如有機酸、鹼性氣體、硫化物）對良率的影響急遽上升，使 AMC 控制從「可選項目」變成「製程關鍵設備」。SEMI 亦指出，先進製程的良率瓶頸正逐步由微粒污染，轉向氣相分子污染，使得 Tool 端濾網、MAU 濾網及再生型高效濾材的需求持續攀升。
(b)AI、5G 與高效能運算（HPC）需求暴增，帶動全球晶圓廠大舉擴產，且先進製程對於微汙染控制之要求更加嚴格，對於AMC（氣態分子污染物）過濾市場之需求將更加強勁，預計市場需求將持續成長。客戶良率要求提高，以及 ESG 驅動的再生濾網採用率提升下，AMC 過濾市場未來 3～5 年預期將保持雙位數成長。
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