濕式化學品公司，三福化(4755.TW)

來簡單理解一下特用化學品公司，三福化。

三福化，主要產品是銷售精密化學品及基礎化學品。精密化學品主要供應IC半導體、LCD、觸控面板、LED、太陽能面板等產業所需之濕式化學品及設備與操作、顯影液回收、研磨液的代工。基礎化學品包含食品添加物、食品原料以及對羥基苯甲酸、環己胺、雙環己胺…等，產品及服務範圍涵蓋食品與化工產業。

所謂溼式化學品指的是微電子中濕式製程中用到的液態化學材料。在半導體中製程中，用到濕式製程的有濕式蝕刻，清洗，顯影，去光阻....等等。濕式化學品和製程更新是同步的，一個新的製程就需要一 個新的濕式化學品

公司精密化學品的產品種類眾多，產品包含顯影劑、蝕刻液、光阻剝離劑、顯影液回收、光阻清洗劑及 RGB 再生劑.....等。客戶遍及高科技產業各大廠商，如：台積電、聯電、南亞科技、友達、群創......，目前三福化已為國內 TFT-LCD 產業電子化學品之主要供應商之一。近年更跨入半導體晶圓製造/封測，太陽能領域之特用化學品。

以下為三福化產品和服務:

精密化學品

(1)顯影劑：利用鹼性顯影劑將半導體或面板製程中的光阻(PR)，經曝光後形成的有機酸中和、剝落而留下未反應的光阻(PR)圖案。

產品包含TMAH (氫氧化四甲基銨)，NaOH (氫氧化鈉)，KOH (氫氧化鉀)。

(2)蝕刻液：利用酸性蝕刻液將半導體或面板製程中未受光阻(PR)保護的金屬蝕刻掉，只留下受光阻(PR)保護的金屬線路圖案。不同的金屬，會使用不同的蝕刻液來做蝕刻。

產品包含Al etchant (鋁蝕刻液)，Mo etchant (鉬蝕刻液)，Cu etchant (銅蝕刻液)，H3PO4 (磷酸)，HNO3 (硝酸)，H2SO4 (硫酸)，HAc (醋酸)，HF (氫氟酸)，草酸水溶液，ITO Etchant (ITO蝕刻液)，MAE (混酸蝕刻液)，氯化鐵溶液，HCL鹽酸，EMN(鉬蝕刻液)。

(3)光阻剝離劑：去除蝕刻完的光阻(PR)，使受光阻(PR)保護的金屬線路圖案顯現出來。

產品包含DMSO (二甲基亞碸)，BDG (二乙二醇單丁醚)，MEA (單乙醇胺)，NMP (氮-甲基四氫吡咯酮)，Cu Stripper，三乙醇胺，二甲基乙醯胺，光阻剝離劑(BM-37)，光阻剝離劑(BM-73)，光阻剝離劑(MD-73)，光阻剝離劑(BT-53)，光阻剝離劑(SF-D20)，光阻剝離劑(SF-M15)，光阻剝離劑(SBM-31)，光阻剝離劑(Stripper-10)，光阻剝離劑(ST-02)，光阻剝離劑(SDN-64)，光阻剝離劑(SNT-35)。

(4)光阻稀釋劑與洗邊劑：光阻(PR)未聚合前，用來稀釋或清洗光阻。

產品包含光阻稀釋劑，PGME (丙二醇單甲醚)，PGMEA (丙二醇單甲醚醋酸酯)，Anone (環已酮)，CPN (環戊酮)，光阻清洗劑，乙酸正丁酯， 苯甲醇，乙二醇，鹼性玻璃清洗劑(GDS-155)，清洗劑。

(5)清洗液：將面板製程產製之不良品玻璃還原成素玻璃使用之。

(6)彩色濾光片再生劑：彩色濾光片生產中不良品之玻璃再生清洗用。

(7)POCl₃ (三氯氧磷)

三氯氧磷，是一種無機化合物，化學式為POCl₃，為無色透明液體，最常用於生產三芳基磷酸酯（如磷酸三苯酯和磷酸三甲苯酯），也可用作阻燃劑及聚氯乙烯的增塑劑。在半導體與太陽能電池工業中，也有用 POCl₃ 作為擴散過程中磷的來源，以摻雜製取 N 型矽半導體。在醫藥應用中也可以用來生產前驅藥物等。

此化學品主要應用於P型態太陽能電池製程。由P型晶片 (摻雜硼或鎵等材料) 組成的矽晶太陽能電池基板型態為市場主力需求之一，為了在矽晶片上形成 P-N 二極體產生光電效應進而製作成太陽能電池，所以要在此 P 型晶片上做 N 型磷擴散層。一般會先使用三氯氧磷 (POCl₃) 液體加上氮氣氣體 (Carrier gas) 在高溫擴散爐管進行擴散在晶片表面形成含磷玻璃層 (PSG) 。再通入氧 氣經由高溫的方式將磷材料擴散進入矽晶格內形成 N 型的磷擴散層，最後再用氫氟酸等溶液去除 PSG 層。 

三福具備 POCl₃ 純化製程產線，能提供高純度 (7N) POCl₃ 產品，並具備自己分析能力，能及時提供高純度產品與品質分析數據，給予客戶端最佳支援力。

(8)N₂O (一氧化二氮)

一氧化二氮俗稱笑氣，是半導體和食品加工等工業製程中，不可或缺的氣體原料，電子級一氧化二氮主要應用在半導體 CVD/Thin film 製程中，食品則運用在起泡劑、助推劑等，另外在醫療上亦可用於醫療麻醉使用。

(9)顯影液回收(氫氧化四甲基銨(TMAH))

顯影劑廣泛應用於面板、半導體、超大型積體電路的裝配和加工，主要於製程中搭配光阻劑之顯像，提供良好顯像能力及高對比特性，但在顯影製程中會產生大量的 TMAH 廢液。由於 TMAH 廢水是所有廢水中氨氮來源的主要物質之一，並具有生物急毒性，若無妥善處理而直接排放，將造成水質惡化對生態環境造成重大的衝擊。

公司回收廠業務係自面板廠、IC 廠等回收顯影液廢液，收取定額清運收入，並使用回收之廢液作為原料再製為成品。公司顯影液係用於面板產業和半導體客戶，該產品再利用樹脂純化，將金屬規格降低至<50ppt 後， 以符合半導體先進製程的規格，再稀釋成 2.38%顯影液後，即可銷售給半導體產業客戶。

基礎化學品

(1)化工產品原料:

包含苯甲酸( 鈉)、磺胺酸、環己胺、雙環己胺、苯胺、對羥基苯甲酸(PHBA)、對羥苯甲酸酯類、草酸、葡萄糖酸鈉、六偏磷酸鈉、間苯二甲酸。主要應用於化粧品、塑膠、食品飲料、個人清潔用品.......等等。

(2)食品添加物

包含調味劑：檸檬酸(單水/無水)、檸檬酸鈉(鉀)、乳酸、乳酸鈉(鈣)。甜味劑：山梨醇液、甘露醇、蔗糖素、醋磺內酯鉀、紐甜、糖精鈉、糖蜜素。防腐劑：苯甲酸(鈉)、己二烯酸鉀。其他：無水氯化鈣、碳酸氫鈉、磷酸、無水碳酸鈉。

(3)食品原料

包含葡萄糖(單水/無水)、麥芽糊精、海藻糖、玉米澱粉。

產業介紹

(1)精密化學品

石油化學產品，一般分為通用化學品(commodity chemicals)和精密化學品(fine chemicals)。通用化學品又被稱為大宗化學品或散裝化學品，精密化學品則常被成為特用化學品 (performance chemicals)或精密化學品。特用化學品主要用於製程或最終產品， 以改進產品特性為目的，多為高附加價值產品。三福化的特用化學品主要用途為電子行業之製程中使用的酸、鹼、 溶劑…. 等化學品，主要有顯影劑、蝕刻液、剝離液、稀釋液、清洗液及研磨液等。 

電子製造業為台灣經濟成長的主要動力，其中IC、光電產業鏈的價值更是佔有重要的地位，三福化在整個產業供應鏈扮演著中游製造商的角色，上游產業以原料供應廠商為主， 供應顯影劑、有機溶劑、酸鹼化學品、特用化學品…等化學品，三福化工為中游產業，將各種不同化學品，經由調配、純化、稀釋等加工過程，將原物料製造成電子製造業所需之顯影劑、剝離劑、蝕刻液、清洗液。 

下游客戶主要為電子製造業，包含IC 製造業、光電產業，部份產品則是透過經銷商銷售，擴展銷售產業類別。

精密化學品應用領域說明

晶圓產業與面板顯示器產業的主要製程之一是在晶圓或玻璃板上生成一特定圖案之薄膜，薄膜的材質可為絕緣的二氧化矽或是多晶矽，不論薄膜的材質為何，都需先在晶圓或玻璃板上塗上一層光阻，經過烤乾、曝光、顯影，而後進入蝕刻以產生所要的圖案，最後再經一道去光阻程序即可完成有圖案之薄膜。顯影劑可分為有機鹼與無機鹼兩類，搭配於光阻劑之顯像，並提供良好顯像能力及高對比特性。

蝕刻液主要應用在液晶面板、觸控面板、太陽能電池之透明導電薄膜(ITO) 或金屬層的蝕刻製程，蝕刻製程乃是將經過微影製程在表面定義出圖案的基板，以化學腐蝕反應的方 式，或物理撞擊方式，或上述兩種合成效果，去除部份材質，留下電路結構。剝離液應用於TFT-LCD 在金屬或半導體薄膜線路之蝕刻製程後，做為剝離光阻的功用。

稀釋液主要使用在面板塗佈光阻後去除基板外邊之多餘光阻。 清洗液用途依需求可分為1.彩色濾光片製程失敗後，為回收該片玻璃所使用之清洗液。 2.基板入機台前之清洗。 3.塗佈光阻治具的清洗。 

隨著台灣半導體與光電產業的持續成長，相關電子化學品的需求也日益增加，而對於電子化學品的品質要求也越來越高。因此，製程效率的發展與品質的提昇，是未來產業發展的重要項目。隨著新一代的產品應用電動車、5G、HPC、物聯網 IoT、軟性顯示器的推出與新一代的技術與製程精進如x奈米、GAA、FinFET、3D堆疊、AMOLED、IGZO、 LTPS、銅製程的發展，全球特用化學品產業產值與成長率均穩定逐年增加。在所需電子化學品方面，製程不同所使用的化學品也各有不同，新一代化學品的研究與開發則成為產業未來發展趨勢。

(2)基礎化學品

三福化基礎化學品產品包含了化工原料、食品添加物及食品原料。化工原料產品，例如環己胺及雙環己胺、對羥苯甲酸酯類、對羥苯甲酸…等，廣泛地運用在各類化學品、清潔用品製造產業。

食品添加物及食品原料則為三福化從原料供應鏈源頭的品質控管、監督並審慎地評估後所引進，作為改裝或銷售之產品，食品添加物及食品原料產品包含：調味劑、防腐劑、品質改良劑、甜味劑、膨脹劑及澱粉類及醣類，客戶為國內各大食品飲料製造廠。

基礎化學品應用領域說明

化工原料產品，例如環己胺為糖蜜素之原料，糖蜜素為人工甜味劑的一種，提供了與糖相等的甜味而不含相等熱量的化合物，它們的甜度是糖的30 至8000倍不等，也正因如此， 由它們製成的產品比起由蔗糖製成的熱量減少了很多，常被用來取代玉米糖漿和蔗糖，添加在很多蘇打水和甜味飲料中，從巧克力到果醬到口香糖、冰淇淋、飲料中的糖，都可以用人工甜味劑來取代。 

環己胺另一用途是用於水處理劑的腐蝕抑制劑。 雙環己胺為生產環己胺時的副產品，主要用於鋼鐵防鏽劑。對羥苯甲酸為液晶高分子(LCP) 原料單體。 對羥苯甲酸酯類(Paraben) 是藥品和化妝品中應用最廣泛的賦形劑和防腐劑。 

食品添加物指添加在食物或食品中除了蒜、蔥、薑等之調味配料以外之成份，其中依各國食品法規之不同，各國許可使用之添加物通常能列入合法添加物之名單內，在一定的用量下所製造之食品不致對消費者之健康造成傷害，聯合國世界糧農組織(FAO) 與世界衛生組 織(WHO) 所共同設立之食品法規委員會訂定了食品添加物的定義、規格與標準，以期國際間能共同遵循，然目前世界各國對食品添加物之定義及管理仍有許多不一致的地方。

例如：美國不承認著色劑為食品添加物，食品法規委員會則不承認污染物及為了保持或增進營養、改良品質而加入食品中之物為食品添加物。我國於食品衛生管理法中詳細且科學化 地描述，食品添加物的定義是：「本法所稱食品添加物係指食品之製造、加工、調配、包裝、運送、貯存等過程中，用以著色、調味、防腐、漂白、乳化、增加香味、安定品質、 促進發酵、增加稠度、增加營養、防止氧化或其他用途而添加於食品或接觸於食品之物質」。 

單水檸檬酸用於食品、飲料行業作為調味劑。安息香酸鈉為一種防腐劑，世界各國包括台灣都允許其加入食品中，出現的地方就是碳酸飲料、蜜餞和零嘴。 

過去接連發生的食品衛生安全事件( 三聚氰胺、塑化劑、瘦肉精等)，再度引發社會大眾更加重視食品的衛生安全與品質管控，一般消費者注重健康意識抬頭，未來衛生安全與品質管控成為食品市場發展之主要訴求。

三福化，主要銷售電子濕式化學品，另有銷售工業用化學品和食品化學品。近5年ROE為10%，19%，17%，12%，10%。毛利率為21%，27%，25%，23%，17%。資產負債率為43%，36%，37%，30%，25%。以2023年為例，公司銷售以精密化學品(包含顯影劑、蝕刻液、光阻剝離劑、顯影液回收、光阻清洗劑......)佔79%，基礎化學品(工業用和食品用)佔21%。其中，精密化學品主要銷售給面板廠和半導體公司。公司在半導體收入約佔整體營收15-20%，逐年增加。銷售區域以亞洲(主要台灣，中國，印度，新加坡...)佔98.88%，美洲1.12%。

另，三福化在越南Vietnam有新的空分廠，主要產品如LOX , LIN及LAR（液態氧、液態氮跟液態氬氣）等，材料廠主要產品如SiH4, POCL3.....等。子公司三福生技從事食品添加劑、保健食品、新藥研發。

循環經濟

三福轉向思考，從「循環經濟」的角度出發，從Recycle，Reuse，Green的觀點來開發化學品，增加客戶願意與三福合作的信心，亦可從「降價」與「紅海」的泥淖中脫身，開發出無臭味，廢液再利用之化學品。近2年陸續開發出的IC配方化學品與TMAH-R就是依此角度開發，獲得客戶青睞。

在地化

台灣在TFT-LCD面板之產量排名前面；在半導體方面，擁有排名前三大的晶圓代工廠及眾多記憶體廠商。因台灣為眾多電子零組件之重要生產國，也成為全球電子特用化學品之重要市場。以往因技術門檻較高，許多電子特用化學品之供應均掌握在日系廠商手中，近年隨著台灣廠商技術能力的不斷提升，加上價格及在地方服務的優勢，使得台灣本土的電子特用化學品供應商能夠逐步打入電子零組件製造廠之供應鏈。

風險

中國面板廠擴充產能太大，導致面板市場供需失衡，連帶台灣兩大面板客戶需求轉弱，影響面板化學品收入。